導讀：日前，國內半導體設備公司至純科技在互動平臺表示，目前至純科技28納米節點全部濕法工藝設備已認證完畢。

  

圖：至純科技

除了28nm工藝節點之外，上海證券報告中指出，至純科技14nm及7nm工藝預計2022年可供客戶驗證，客戶包括中芯國際、華虹集團、長鑫存儲、華為、臺灣力晶等行業領先者。

2020年至純科技濕法工藝設備出貨量超過30臺，新增訂單5.3億元，增長211.8%。

“濕法工藝設備”在晶圓制造產線主要用于有效清洗晶圓表面的顆粒、金屬離子以及一些氧化層等等，在最大程度上去除晶圓上的雜質。一般的清洗原理主要分為干式以及濕式兩種，由于濕式的整體工作效率更好，因此國內超過百分90%的產線均采用濕法設備。

  

圖：盛美半導體的濕法清洗設備

至純科技表示，國內目前有三家在濕法工藝設備端提供中高階濕法制程設備，分別是至純科技、北方華創和盛美半導體，國內廠商的市場占比在逐年上升中。

同時，國內大型晶圓廠的新fab已經陸續批量采購本土廠商的刻蝕、清洗等工藝設備。

據招標網統計，2020年長江存儲公開采招標設備1512臺，其中北方華創合計中標50臺，包括成膜設備4臺，刻蝕設備12臺，退火設備30臺，氧化設備1臺，爐管1臺；盛美半導體共計中標11臺清洗設備。

2020年華虹無錫12寸廠合計采購267臺半導體設備，其中北方華創中標真空烘烤爐等12臺設備，盛美半導體中標15臺清洗設備。