導讀：近日，英特爾公布其位于愛爾蘭的Fab 34迎來第一臺EUV光刻系統，同時為下一代光刻機（High NA）準備的D1X工廠舉行擴建儀式。

  

圖：正在入廠的部分EUV系統

早在2012年7月，英特爾就向ASML的EUV開發計劃投資了41億美元——其中31億美元用于購買ASML的股票，10億美元用于資助EUV研發。

有趣的是，盡管制造EUV的ASML位于荷蘭，但這是歐洲晶圓廠有史以來第一次安裝EUV，而英特爾愛爾蘭廠也可以說為此等待了10年。

因為ASML EUV系統的另外兩大“金主”兼客戶是臺積電和三星，和英特爾三家合計占了ASML 2021年營收的84%，而此前安裝EUV的先進晶圓廠均位于亞洲和美國。

據介紹，本次該EUV系統屬于NXE 3000系列，采購均價約為2億美元，用于Intel首個使用EUV的工藝——Intel 4（相當于臺積電4nm），而整座愛爾蘭晶圓廠（Fab 34）總投資達70億美元，是Intel第二座、歐洲第一座EUV工藝晶圓廠。

  

圖：EUV光刻系統內部特寫

英特爾稱，這座EUV系統由10萬個零件、3千根電纜、4萬個螺栓組成，此前已經花費18個月的設計和施工來建設容納這座機器的大樓。

同時，構成該系統的模塊由全球60個地點制造發貨，ASML會組裝測試后將其拆解，再運到客戶指定位置。而運輸這個龐然大物需要4架波音747貨運飛機滿載，然后陸運部分由35輛卡車分批送入廠房。

目前，為了光刻機的順利安裝并對英特爾員工進行培訓，ASML已經安排超過100名工程師進入該廠進行技術指導。

  

圖：為下一代EUV準備的英特爾工廠

而另一臺售價高達3億美元的High NA EUV系統第一臺預計將被英特爾拿到，為它準備的廠房則也在緊鑼密鼓的準備中。

本周，Intel在位于美國俄勒岡的D1X工廠舉辦隆重的Mod3擴建儀式，投資達30億美元，并將其命名為戈登摩爾（英特爾創始人之一）公園。

  

圖：兩代EUV系統體積對比

D1X-Mod3的重大意義在于，為工廠增加了2.5萬平米的潔凈室空間，將D1X擴大了20%，這便為最終足以搬進ASML的下一代最先進高數值孔徑（High NA）EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200 EUV創造必要條件。

因為和服務Intel 3/4工藝的NXE 3000系列EUV光刻機相比，EXE 5200的體積大了很多，突破了D1X原來的“天花板”。而這臺機器可以為英特爾18A工藝制程提速，直接對標的是臺積電的2nm。

而有能力購買并使用它的客戶預計不超過五家。