ASML CEO:對中國大陸斷供DUV后果嚴重
2022-07-22 17:40:55閱讀量:1011
導讀:近日荷蘭ASML CEO警告稱,如果停止向中國大陸供應半導體設備,全球半導體產業鏈將面臨中斷。
圖:Peter Wennink
芯片大師曾報道鎖死7nm?美正施壓ASML對大陸禁售DUV光刻機,但基于商業利益和外交考量,荷蘭政府并未同意,同時ASML明確持反對態度。
對此,近期ASML首席執行官Peter Wennink明確表示:“我認為需要意識到中國大陸是半導體產業重要參與者,不論成熟制程還是主流制程,中國大陸都是全球市場非常重要的供應商,所以必須小心正在做的事。”
同時還略帶批評稱:“政界人士不時提出限制出口中國大陸DUV的計劃,不過世界不能忽視的事實是,中國大陸擁有滿足全球市場需求的芯片制造能力?!?/span>
此前,Wennink不止一次表達過,如果ASML斷供更多設備,那么中國大陸遲早會研制出自己的光刻機,盡管不一定先進,但ASML將永遠失去中國市場。
圖:EUV光刻內部結構
中國大陸是ASML第三大市場,僅次于中國臺灣和韓國,約占其2021年銷售額的16%,即21億歐元(約合145億元人民幣)。
自2019年以來,荷蘭政府與美國達成協議,未授予ASML向中國大陸芯片制造商出售最先進的EUV光刻機的許可。不過,ASML可以繼續向大陸客戶銷售DUV光刻機,而全球大多數芯片都是用DUV光刻機制造的。
在中美貿易戰日趨激烈背景下,美國仍有施壓ASML要求不要出售DUV等其他設備給中國大陸的討論。荷蘭外長也證實,美國和荷蘭正在討論此事。
圖:蔡司的高NA鏡頭研發生產基地
值得一提的是,在討論是否對中國大陸禁售上一代DUV的同時,本季度ASML公司下一代高NA孔徑EUV光刻機的制造已經取得重大突破。
ASML表示已經收到了來自供應商的物鏡、光源及工作臺,這也是光刻機的三大核心部件,直接決定光刻機的工藝精度。
根據ASML的消息,相比目前NA孔徑只有0.33的光刻機,下一代的EUV光刻機NA孔徑提升到0.55,有望進一步提高芯片工藝,是制造2nm及以下工藝的關鍵設備。
高NA孔徑的EUV光刻機價格也會大幅上漲,相比目前單臺10億元的價格,下一代光刻機價格要暴漲到4億美元,人民幣26億元以上,原型機預計2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出貨。
據報道稱,首批4臺高NA光刻系統被英特爾拿下。

L7805CV-DG/線性穩壓器(LDO) | 0.5637 | |
AMS1117-3.3/線性穩壓器(LDO) | 0.1237 | |
BAT54C,215/肖特基二極管 | 0.0334 | |
LM358DR2G/運算放大器 | 0.35 | |
CJ431/電壓基準芯片 | 0.1147 | |
LM393DR2G/比較器 | 0.318 | |
ADUM4160BRWZ-RL/隔離式USB芯片 | 31.6 | |
SS8050/三極管(BJT) | 0.035 | |
8S005/錫膏/錫漿 | 17.67 | |
B0505S-1WR3/隔離電源模塊 | 2.34 |