導讀：近日荷蘭ASML CEO警告稱，如果停止向中國大陸供應半導體設備，全球半導體產業(yè)鏈將面臨中斷。

  

圖：Peter Wennink

芯片大師曾報道鎖死7nm？美正施壓ASML對大陸禁售DUV光刻機，但基于商業(yè)利益和外交考量，荷蘭政府并未同意，同時ASML明確持反對態(tài)度。

對此，近期ASML首席執(zhí)行官Peter Wennink明確表示：“我認為需要意識到中國大陸是半導體產業(yè)重要參與者，不論成熟制程還是主流制程，中國大陸都是全球市場非常重要的供應商，所以必須小心正在做的事。”

同時還略帶批評稱：“政界人士不時提出限制出口中國大陸DUV的計劃，不過世界不能忽視的事實是，中國大陸擁有滿足全球市場需求的芯片制造能力。”

此前，Wennink不止一次表達過，如果ASML斷供更多設備，那么中國大陸遲早會研制出自己的光刻機，盡管不一定先進，但ASML將永遠失去中國市場。

  

圖：EUV光刻內部結構

中國大陸是ASML第三大市場，僅次于中國臺灣和韓國，約占其2021年銷售額的16%，即21億歐元（約合145億元人民幣）。

自2019年以來，荷蘭政府與美國達成協(xié)議，未授予ASML向中國大陸芯片制造商出售最先進的EUV光刻機的許可。不過，ASML可以繼續(xù)向大陸客戶銷售DUV光刻機，而全球大多數(shù)芯片都是用DUV光刻機制造的。

在中美貿易戰(zhàn)日趨激烈背景下，美國仍有施壓ASML要求不要出售DUV等其他設備給中國大陸的討論。荷蘭外長也證實，美國和荷蘭正在討論此事。

  

圖：蔡司的高NA鏡頭研發(fā)生產基地

值得一提的是，在討論是否對中國大陸禁售上一代DUV的同時，本季度ASML公司下一代高NA孔徑EUV光刻機的制造已經取得重大突破。

ASML表示已經收到了來自供應商的物鏡、光源及工作臺，這也是光刻機的三大核心部件，直接決定光刻機的工藝精度。

根據(jù)ASML的消息，相比目前NA孔徑只有0.33的光刻機，下一代的EUV光刻機NA孔徑提升到0.55，有望進一步提高芯片工藝，是制造2nm及以下工藝的關鍵設備。

高NA孔徑的EUV光刻機價格也會大幅上漲，相比目前單臺10億元的價格，下一代光刻機價格要暴漲到4億美元，人民幣26億元以上，原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出貨。

據(jù)報道稱，首批4臺高NA光刻系統(tǒng)被英特爾拿下。